Wireva

Китаю знадобиться близько 15 років для створення власного EUV-обладнання, — Zeiss

Керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд заявив, що Китаю знадобиться приблизно 15 років для створення власних передових систем EUV-літографії. Це обладнання є критичним для виробництва найсучасніших мікросхем, зокрема для штучного інтелекту.

Monitoring item. The full text is not distributed. Extract and source below.

Керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд заявив, що Китаю знадобиться приблизно 15 років для створення власних передових систем EUV-літографії. Це обладнання є критичним для виробництва найсучасніших мікросхем, зокрема для штучного інтелекту.

Same event, other desks

Story file →